Maskentechnik

Maskentechnik,

 

Halbleitertechnik: ein Verfahren der Lithographie, bei dem, im Gegensatz zu direkt schreibenden Methoden, Masken zur Übertragung der Strukturen auf das Halbleitersubstrat (Halbleiterscheiben oder Wafer) verwendet werden. Zunächst wird die benötigte Anzahl an Masken hergestellt. Die Muster der Masken werden dann der Reihe nach auf das jeweils zuvor durch Beschichtung mit Fotolack sensibilisierte Substrat übertragen. Nach jeder Belichtung wird das Substrat, nach der Entfernung des Fotolacks an den belichteten beziehungsweise unbelichteten Stellen (je nach Verfahren), den Prozessen unterworfen, durch die es die im Entwurf konzipierten elektronischen Eigenschaften erhält.